- 型号:EA1200VX
- 品名:桌上型X射线荧光分析仪 Desktop XRF
多方位分析应用高阶桌上型XRF(X射线荧光分析仪)
• 高精密度成份分析
• RoHS有害物质分析
• 材料中的主成份或微量成份分析效果极佳
• 金属电镀膜厚测试
• 可对应环境、油品、古物及艺术等不同领域分析需求
「Vortex SDD」多阴极硅半导体检测器
• SEM-EDS(扫描式电子显微镜)所专用的讯号接收
检测器
• 日立高新(Hitachi high-tech)专利
• 绝佳分辨率、再现性与高灵敏度
Vortex SDD多阴极硅半导体检测器
日立高新(Hitachi high-tech)专利使用,SEM-EDS(扫描式电子显微镜)所专用的讯号接收检测器,与过往机型相比,提高至少15倍的灵敏度。
绝佳分辨率、再现性与高灵敏度
多方位分析应用高阶桌上型XRF(X射线荧光分析仪)
可应用真空状态高精密度成份分析,材料中的主成份或微量成份分析效果极佳,拥有大型样品室与真空系统,能应用在各种样品分析。
EA1200VX vs. ICP-OES无铅焊锡分析比较的数据,差异甚小,可以说是以最简单的检测方式达到好的分析效果。
EA1200VX vs. FT9500高效能电镀膜厚分析比较的数据,差异不大,此仪器的应用层面很广,能够执行很多方面的检测。
「EA1200VX」 「FT9500」
大型样品室与样品自动进样器,提高测试弹性。
项目 | 规格 |
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产地 | 日本 |
测定元素范围 | 钠(Na11)~铀(U92) |
样品型态 | 固体、液体、粉末皆可 |
X射线源 | 管电压:15 kV、30kV、40 kV、50 kV(可调式) 管电流:1mA(10~1000μA自动调整最适电流输出) |
X射线照射方向 | 斜下方照射型 |
检测器 | Vortex SDD(Hitachi专利,多阴极硅半导体检测器) |
冷却方式 | 电子冷却(不需液态氮) |
准直器(分析区域) | 1、8 mmφ(自动切换) |
样品观察 | 高解析彩色CCD镜头 |
滤波器 | 自动切换 |
样品室 | 430(W)×320(D)×195(H) mm |
仪器尺寸 | 580(W)×650(D)×513(H) mm |
重量 | 95Kg(不含计算机及屏幕) |
定量分析功能 | ■ 微量元素成份定量分析 ■ RoHS有害物质分析 ■ 无卤规范有害物质分析 ■ EN71-3有害物质分析 ■ 电镀膜厚测定 ■ 元素分析FP法 ■ 元素分析检量线法 ■ HS快速分析模式 |
定性分析功能 | ■ 微量元素成份定性分析 ■ 元素分析 ■ 能谱比对 ■ 元素自动辨别比对 |
标准配件 | ■ EA 系列专用桌上型Dell计算机(含液晶屏幕、鼠标、键盘) ■ RoHS塑料有害物质标准品(日本国家一级认证单位Jab认证) ■ 仪器硬件确认片一组(含强度、能量、分辨率及光径校正) ■ 样品杯 ■ 样品杯用测试薄膜 |
可加购选项 | ■ 真空系统 ■ 12个样品自动转盘 ■ 3mmφ准直器 ■ 环境限制用标准物质(无卤 、EN71-3、Sb锑、Sn锡、P磷、S硫) ■ 金属电镀膜厚标准品 ■ 油压机与制锭机 |
设置需求 | 建议桌面尺寸:1500(W)×1000(D) mm 使用电源:AC100~240V(50~60Hz)/180VA |
分类 | 标题 | 日期 |
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分類:XRF | 標題:【XRF】原来XRF有这么多的应用 | 日期:2019-11-25 |