- 型号：EA6000VX
- 品名：桌上型X射线荧光分析仪 Desktop XRF
自动化分析功能
• 超高速平面扫描
• 雷射自动定位系统（移动误差小于100μm）
• 500笔连续测试
• 扫描路径纪录系统
高解析镜头模块结合光学定位系统
• 高分辨率CCD镜头与自动对焦系统
• 广域及狭域高分辨率操作
• 微小异物查找（分辨率20um以下）
高速扫描分析机种─自动化分析
凭借最大1,000,000cps的高计数率Vortex SDD检测器完成高灵敏度的测量，以及借助最大250 mm×200 mm范围的快速自动扫描平台，实现高速精准扫描量测超高速平面扫描，对于尺寸为100 mm×100 mm的样品，可在3分钟内检测出指定元素的分布。具雷射自动定位系统（移动误差小于100μm），可连续测试500笔、扫描路径纪录系统。
具备高速雷射扫描功能
连续多点测试功能
高解析镜头模块结合光学定位系统
通过Telecentric Lens 系统和快速电动样品台，将元素扫描像和光学成像进行重合，对微小部品中特定位置所含元素也能进行简单观察。最大可观察250 mm×200 mm的范围，并且能够实现广域位置最小误差为100 µm以内的精确定位。
高分辨率CCD镜头与自动对焦系统
广域及狭域高分辨率操作
微小异物查找（分辨率20um以下）
高精密分析效能高阶桌上型XRF（X射线荧光分析仪）
可选配高感度氦气充填系统，依照欲测定元素特性，选择在大气或氦气环境下测量，氦气环境可减少大气干扰，大幅提高检测轻元素的灵敏度，测量范围扩大。
高感度氦气充填系统
高灵敏度成份分析与高精度金属电镀膜厚量测
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| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 产地 | 日本 |
| 测定元素范围 | 钠（Na11）～铀（U92）※ 需选配氦气充填系统 |
| 样品型态 | 固体、液体、粉末皆可 |
| X射线源 | 管电压： 15 kV、30kV、40 kV、50 kV（可调式） 管电流：1mA（10～1000μA自动调整最适电流输出） |
| X射线照射方向 | 上方垂直照射型 |
| 检测器 | Vortex SDD（Hitachi专利，多阴极硅半导体检测器） |
| 冷却方式 | 电子冷却（不需液态氮） |
| 准直器（分析区域） | 0.2、0.5、1.2、3mmφ（自动切换） |
| 样品观察 | 高解析、高分辨率彩色CCD镜头 |
| 滤波器 | 六种模式（自动切换） |
| 样品最大可扫描范围 | 250(W)×200(D)×150(H) mm |
| 仪器尺寸 | 750(W)×740(D)×783(H) mm |
| 重量 | 160Kg（不含计算机及屏幕） |
| 扫描分析功能 | ■ 高解析、高分辨率CCD镜头 ■ 雷射自动对焦系统（误差小于1mm） ■ 连续500点扫描分析 ■ 扫描路径纪录系统 ■ 微小部件扫描分析 ■ 微小异物查找（分辨率20um以下） |
| 定性分析功能 | ■ 微量元素成份定性分析 ■ 元素分析 ■ 能谱比对 ■ 元素自动辨别比对 |
| 定量分析功能 | ■ 微量元素成份定量分析 ■ RoHS有害物质分析 ■ 无卤规范有害物质分析 ■ EN71-3有害物质分析 ■ 电镀膜厚测定 ■ 元素分析FP法 ■ 元素分析检量线法 ■ HS快速分析模式 |
| 标准配件 | ■ EA 系列专用桌上型Dell计算机（含液晶屏幕、鼠标、键盘） ■ RoHS塑料有害物质标准品（日本国家一级认证单位Jab认证） ■ 仪器硬件确认片一组（含强度、能量、分辨率及光径校正） ■ 样品杯 ■ 样品杯用测试薄膜 |
| 可加购选项 | ■ 氦气充填系统 ■ 操作游戏杆 ■ 信号灯 ■ 特殊式样专用载台 ■ 样品置放治具 ■ 环境限制用标准物质（无卤、EN71-3、Sb锑、Sn锡、P磷、S硫） ■ 金属电镀膜厚标准品 ■ 油压机与制锭机 |
| 设置需求 | 建议桌面尺寸：1500(W)×1000(D) mm 使用电源：AC100～240V（50～60Hz）/400VA |
| 分类 | 标题 | 日期 |
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