- Model：EA1200VX
- Product：桌上型X射线荧光分析仪 Desktop XRF
多方位分析应用高阶桌上型XRF（X射线荧光分析仪）
• 高精密度成份分析
• RoHS有害物质分析
• 材料中的主成份或微量成份分析效果极佳
• 金属电镀膜厚测试
• 可对应环境、油品、古物及艺术等不同领域分析需求
「Vortex SDD」多阴极硅半导体检测器
• SEM-EDS（扫描式电子显微镜）所专用的讯号接收
检测器
• 日立高新（Hitachi high-tech）专利
• 绝佳分辨率、再现性与高灵敏度
Vortex SDD多阴极硅半导体检测器
日立高新（Hitachi high-tech）专利使用，SEM-EDS（扫描式电子显微镜）所专用的讯号接收检测器，与过往机型相比，提高至少15倍的灵敏度。
绝佳分辨率、再现性与高灵敏度
多方位分析应用高阶桌上型XRF（X射线荧光分析仪）
可应用真空状态高精密度成份分析，材料中的主成份或微量成份分析效果极佳，拥有大型样品室与真空系统，能应用在各种样品分析。
EA1200VX vs. ICP-OES无铅焊锡分析比较的数据，差异甚小，可以说是以最简单的检测方式达到好的分析效果。
EA1200VX vs. FT9500高效能电镀膜厚分析比较的数据，差异不大，此仪器的应用层面很广，能够执行很多方面的检测。
「EA1200VX」 「FT9500」
大型样品室与样品自动进样器，提高测试弹性。
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 产地 | 日本 |
| 测定元素范围 | 钠（Na11）～铀（U92） |
| 样品型态 | 固体、液体、粉末皆可 |
| X射线源 | 管电压：15 kV、30kV、40 kV、50 kV（可调式） 管电流：1mA（10～1000μA自动调整最适电流输出） |
| X射线照射方向 | 斜下方照射型 |
| 检测器 | Vortex SDD（Hitachi专利，多阴极硅半导体检测器） |
| 冷却方式 | 电子冷却（不需液态氮） |
| 准直器（分析区域） | 1、8 mmφ（自动切换） |
| 样品观察 | 高解析彩色CCD镜头 |
| 滤波器 | 自动切换 |
| 样品室 | 430(W)×320(D)×195(H) mm |
| 仪器尺寸 | 580(W)×650(D)×513(H) mm |
| 重量 | 95Kg（不含计算机及屏幕） |
| 定量分析功能 | ■ 微量元素成份定量分析 ■ RoHS有害物质分析 ■ 无卤规范有害物质分析 ■ EN71-3有害物质分析 ■ 电镀膜厚测定 ■ 元素分析FP法 ■ 元素分析检量线法 ■ HS快速分析模式 |
| 定性分析功能 | ■ 微量元素成份定性分析 ■ 元素分析 ■ 能谱比对 ■ 元素自动辨别比对 |
| 标准配件 | ■ EA 系列专用桌上型Dell计算机（含液晶屏幕、鼠标、键盘） ■ RoHS塑料有害物质标准品（日本国家一级认证单位Jab认证） ■ 仪器硬件确认片一组（含强度、能量、分辨率及光径校正） ■ 样品杯 ■ 样品杯用测试薄膜 |
| 可加购选项 | ■ 真空系统 ■ 12个样品自动转盘 ■ 3mmφ准直器 ■ 环境限制用标准物质（无卤 、EN71-3、Sb锑、Sn锡、P磷、S硫） ■ 金属电镀膜厚标准品 ■ 油压机与制锭机 |
| 设置需求 | 建议桌面尺寸：1500(W)×1000(D) mm 使用电源：AC100～240V（50～60Hz）/180VA |
| Classification | Title | Date |
|---|
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