- Model:EA1200VX
- Product:桌上型X射線螢光分析儀 Desktop XRF
多方位分析應用高階桌上型XRF(X射線螢光分析儀)
• 高精密度成份分析
• RoHS有害物質分析
• 材料中的主成份或微量成份分析效果極佳
• 金屬電鍍膜厚測試
• 可對應環境、油品、古物及藝術等不同領域分析需求
「Vortex SDD」多陰極矽半導體檢測器
• SEM-EDS(掃描式電子顯微鏡)所專用的訊號接收
檢測器
• 日立高新(Hitachi high-tech)專利
• 絕佳解析度、再現性與高靈敏度
Vortex SDD多陰極矽半導體檢測器
日立高新(Hitachi high-tech)專利使用,SEM-EDS(掃描式電子顯微鏡)所專用的訊號接收檢測器,與過往機型相比,提高至少15倍的靈敏度。
絕佳解析度、再現性與高靈敏度
多方位分析應用高階桌上型XRF(X射線螢光分析儀)
可應用真空狀態高精密度成份分析,材料中的主成份或微量成份分析效果極佳,擁有大型樣品室與真空系統,能應用在各種樣品分析。
EA1200VX vs. ICP-OES無鉛銲錫分析比較的數據,差異甚小,可以說是以最簡單的檢測方式達到好的分析效果。
EA1200VX vs. FT9500高效能電鍍膜厚分析比較的數據,差異不大,此儀器的應用層面很廣,能夠執行很多方面的檢測。
「EA1200VX」 「FT9500」
大型樣品室與樣品自動進樣器,提高測試彈性。
項目 | 規格 |
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產地 | 日本 |
測定元素範圍 | 鈉(Na11)~鈾(U92) |
樣品型態 | 固體、液體、粉末皆可 |
X射線源 | 管電壓:15 kV、30kV、40 kV、50 kV(可調式) 管電流:1mA(10~1000μA自動調整最適電流輸出) |
X射線照射方向 | 斜下方照射型 |
檢測器 | Vortex SDD(Hitachi專利,多陰極矽半導體檢測器) |
冷卻方式 | 電子冷卻(不需液態氮) |
準直器(分析區域) | 1、8 mmφ(自動切換) |
樣品觀察 | 高解析彩色CCD鏡頭 |
濾波器 | 自動切換 |
樣品室 | 430(W)×320(D)×195(H) mm |
儀器尺寸 | 580(W)×650(D)×513(H) mm |
重量 | 95Kg(不含電腦及螢幕) |
定量分析功能 | ■ 微量元素成份定量分析 ■ RoHS有害物質分析 ■ 無鹵規範有害物質分析 ■ EN71-3有害物質分析 ■ 電鍍膜厚測定 ■ 元素分析FP法 ■ 元素分析檢量線法 ■ HS快速分析模式 |
定性分析功能 | ■ 微量元素成份定性分析 ■ 元素分析 ■ 能譜比對 ■ 元素自動辨別比對 |
標準配件 | ■ EA 系列專用桌上型Dell電腦(含液晶螢幕、滑鼠、鍵盤) ■ RoHS塑料有害物質標準品(日本國家一級認證單位Jab認證) ■ 儀器硬體確認片一組(含強度、能量、解析度及光徑校正) ■ 樣品杯 ■ 樣品杯用測試薄膜 |
可加購選項 | ■ 真空系統 ■ 12個樣品自動轉盤 ■ 3mmφ準直器 ■ 環境限制用標準物質(無鹵 、EN71-3、Sb銻、Sn錫、P磷、S硫) ■ 金屬電鍍膜厚標準品 ■ 油壓機與製錠機 |
設置需求 | 建議桌面尺寸:1500(W)×1000(D) mm 使用電源:AC100~240V(50~60Hz)/180VA |
Classification | Title | Date |
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