- Model：EA6000VX
- Product：桌上型X射線螢光分析儀 Desktop XRF
自動化分析功能
• 超高速平面掃描
• 雷射自動定位系統（移動誤差小於100μm）
• 500筆連續測試
• 掃描路徑紀錄系統
高解析鏡頭模組結合光學定位系統
• 高解析度CCD鏡頭與自動對焦系統
• 廣域及狹域高解析度操作
• 微小異物查找（解析度20um以下）
高速掃描分析機種─自動化分析
憑藉最大1,000,000cps的高計數率Vortex SDD檢測器完成高靈敏度的測量，以及借助最大250 mm×200 mm範圍的快速自動掃描平台，實現高速精準掃描量測超高速平面掃描，對於尺寸為100 mm×100 mm的樣品，可在3分鐘內檢測出指定元素的分佈。具雷射自動定位系統（移動誤差小於100μm），可連續測試500筆、掃描路徑紀錄系統。
具備高速雷射掃描功能
連續多點測試功能
高解析鏡頭模組結合光學定位系統
通過Telecentric Lens 系統和快速電動樣品台，將元素掃描像和光學成像進行重合，對微小部品中特定位置所含元素也能進行簡單觀察。最大可觀察250 mm×200 mm的範圍，並且能夠實現廣域位置最小誤差為100 µm以內的精確定位。
高解析度CCD鏡頭與自動對焦系統
廣域及狹域高解析度操作
微小異物查找（解析度20um以下）
高精密分析效能高階桌上型XRF（X射線螢光分析儀）
可選配高感度氦氣充填系統，依照欲測定元素特性，選擇在大氣或氦氣環境下測量，氦氣環境可減少大氣干擾，大幅提高檢測輕元素的靈敏度，測量範圍擴大。
高感度氦氣充填系統
高靈敏度成份分析與高精度金屬電鍍膜厚量測
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| 項目 | 規格 |
|---|---|
| 產地 | 日本 |
| 測定元素範圍 | 鈉（Na11）～鈾（U92）※ 需選配氦氣充填系統 |
| 樣品型態 | 固體、液體、粉末皆可 |
| X射線源 | 管電壓： 15 kV、30kV、40 kV、50 kV（可調式） 管電流：1mA（10～1000μA自動調整最適電流輸出） |
| X射線照射方向 | 上方垂直照射型 |
| 檢測器 | Vortex SDD（Hitachi專利，多陰極矽半導體檢測器） |
| 冷卻方式 | 電子冷卻（不需液態氮） |
| 準直器（分析區域） | 0.2、0.5、1.2、3mmφ（自動切換） |
| 樣品觀察 | 高解析、高分辨率彩色CCD鏡頭 |
| 濾波器 | 六種模式（自動切換） |
| 樣品最大可掃描範圍 | 250(W)×200(D)×150(H) mm |
| 儀器尺寸 | 750(W)×740(D)×783(H) mm |
| 重量 | 160Kg（不含電腦及螢幕） |
| 掃描分析功能 | ■ 高解析、高分辨率CCD鏡頭 ■ 雷射自動對焦系統（誤差小於1mm） ■ 連續500點掃描分析 ■ 掃描路徑紀錄系統 ■ 微小部件掃描分析 ■ 微小異物查找（解析度20um以下） |
| 定性分析功能 | ■ 微量元素成份定性分析 ■ 元素分析 ■ 能譜比對 ■ 元素自動辨別比對 |
| 定量分析功能 | ■ 微量元素成份定量分析 ■ RoHS有害物質分析 ■ 無鹵規範有害物質分析 ■ EN71-3有害物質分析 ■ 電鍍膜厚測定 ■ 元素分析FP法 ■ 元素分析檢量線法 ■ HS快速分析模式 |
| 標準配件 | ■ EA 系列專用桌上型Dell電腦（含液晶螢幕、滑鼠、鍵盤） ■ RoHS塑料有害物質標準品（日本國家一級認證單位Jab認證） ■ 儀器硬體確認片一組（含強度、能量、解析度及光徑校正） ■ 樣品杯 ■ 樣品杯用測試薄膜 |
| 可加購選項 | ■ 氦氣充填系統 ■ 操作搖桿 ■ 信號燈 ■ 特殊式樣專用載台 ■ 樣品置放治具 ■ 環境限制用標準物質（無鹵、EN71-3、Sb銻、Sn錫、P磷、S硫） ■ 金屬電鍍膜厚標準品 ■ 油壓機與製錠機 |
| 設置需求 | 建議桌面尺寸：1500(W)×1000(D) mm 使用電源：AC100～240V（50～60Hz）/400VA |
| Classification | Title | Date |
|---|
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