【XRF】開創異物分析的新領域技術－日本日立EA6000VX XRF
異物分析於品管檢查流程是非常重要的環節，業界最常利用SEM/EDS（掃描式電子顯微鏡/能量分散式X射線螢光光譜儀）來進行異物查找，此類儀器主要是由掃描式電子顯微鏡及一般使用業界用來做為RoHS等有害物質快速篩選檢測的能量分散型螢光X射線分析儀（ED-XRF），一般常見的構造，X光源僅能進行單點式的照射（如圖一），一般能照射到的樣品面積最大直徑10mm，若樣品直徑大於10mm，則需多次移動樣品位置以進行分析，較耗費時間與人力；若產品各部位組成不同或想進行全面性檢測，建議可考慮掃描分析式的ED-XRF，此類型的機台會搭配一個承載樣品的電動平台，藉由平台的自動移動，X光源可連續照射不同區域的樣品，再經由檢測器連續接受不同區域樣品所發出的訊號，即可自動輸出掃描圖像及測試結果。
日本日立EA6000VX搭載世界最高級的高計數率檢測器（Vortex電子冷卻式矽半導體多陰極檢測器），可快速接收樣品所發出的訊號，因此能在最短時間內快速掃瞄樣品。
若欲進行50個外型相同的塑膠粒子溴（Br）含量分析，以單點照射式的ED-XRF，需進行50次的測試，若以一個樣品需花費100秒分析，總共需耗費5,000秒（83分鐘）；而EA6000VX則僅需3分鐘即可快速掃瞄全部樣品的溴（Br）含量分佈情況，如圖二。
若樣品面積較大且組成不均勻時，以單點照射式的ED-XRF進行分析時，不僅需依據不同材質分別進行檢測，若該測試材質面積太小時，X光源還有可能照射到鄰近區域造成干擾，進而影響測試結果；而EA6000VX則可進行整片樣品的快速掃瞄並得到樣品元素分佈圖像，如圖三。
我們提供多樣性的桌上型XRF符合不同的測試需求：
- 單點照射式XRF：日本日立EA1000AⅢ、EA1000VX、EA1200VX、EA1400
- 掃描分析式XRF：日本日立EA6000VX、SEA5000系列
如果對於本篇文章或設備有任何相關疑問，歡迎隨時與我們聯繫，謝謝。
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